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高压X射线衍射仪 (HPXRD)

产品型号:HPXRD
产品介绍

高压X射线衍射方法源自于同步辐射光源,可用于研究粉末和单晶在高压条件下的结构形成和演化规律。为解决同步辐射光源机时资源偏少的难题,本公司开发实验室级别的高压X射线衍射仪。本产品针对高压X射线衍射方法的独特性,基于DAC技术和先进的微焦斑高能光源,结合精密旋转中心定位法,实现对粉体材料、单晶材料等的高压条件下结构研究。


技术指标

1、 可选微焦斑Mo靶(17kev),Ag靶材(22 kev),同时可选针对高压实验的高能液态金属In光源(24 kev),X 射线光源具有聚焦后样品处光斑小,光通量大和波长短等特点。

2、 大面积、单光子计数探测器提高衍射数据分辨率,获得更多的衍射峰数量,提高晶体结构的分辨率。配备CdTe单光子计数型探测器,大幅提高对短波长射线的探测效率并降低背景噪音,提高数据信噪比。

3、 采用在同步辐射实验装置上所使用的先进旋转中心定位法,在此基础上进行优化。利用五维电动样品位移台,通过软件操作,实现样品扫描对中。具有样品到探测器距离固定不变、数据精确等优势,避免用户操作时辐照损伤。


液态金属In靶E1型X射线光源参数

高通量模式

焦斑大小

90 μm FWHM

通量

1.9 × 108 ph/s

发散度

3.15 mrad

小焦斑模式

焦斑大小

15 μm FWHM

通量

1.8 ×107 ph/s

发散度

12.6 mrad

特殊模式

焦斑大小

10 μmFWHM

通量

1.0 ×106 ph/s

发散度

2 mrad

位移台参数


XY轴重复定位精度±0.2 μm;行程±10 mm;

Z轴重复定位精度≤±0.2 μm;行程±10 mm;

Ф 轴重复定位精度≤0.002°;行程±135°;

X1Y1重复定位精度±0.2 μm;行程±12.5 mm;



产品应用
  • 1、高压下的结构相变、状态方程、弹性、织构等研究

  • 2、涉及的材料包括高温超导体、纳米材料、超硬材料、矿物、大块金属玻璃、半导体、各种功能材料等

  • 3、应用领域包括物理、化学、地球/行星科学、材料等


产品图片

高压X射线衍射仪 (图1)

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